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鍍層檢測(cè)儀ux210

簡要描述:儀器簡介: ux210型x熒光光譜儀,主要用于rohs指令限定的6種有害物質(zhì),鉛Pb、汞Hg、鎘Cd、六價(jià)鉻Cr、溴Br的準(zhǔn)確檢測(cè),是各電子電器生產(chǎn)商應(yīng)對(duì)rohs指令*檢測(cè)工具;此外ux210型x熒光光譜儀還可以測(cè)試K-U之間的其它元素以及鍍層厚度的檢測(cè)。

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-07-12
  • 訪  問  量:1599

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詳細(xì)介紹

儀器簡介:
ux210型x熒光光譜儀,主要用于rohs指令限定的6種有害物質(zhì),鉛Pb、汞Hg、鎘Cd、六價(jià)鉻Cr、溴Br的準(zhǔn)確檢測(cè),是各電子電器生產(chǎn)商應(yīng)對(duì)rohs指令*檢測(cè)工具;此外ux210型x熒光光譜儀還可以測(cè)試K-U之間的其它元素以及鍍層厚度的檢測(cè)。

技術(shù)參數(shù):
儀器尺寸:640(w)×474(d)×412(h)mm
樣品腔尺寸:小樣品腔-300(w)×300(d)×100(h)mm
                  大樣品腔-無限制,小于30公斤
重量:48kg
工作環(huán)境:15-30攝氏度;相對(duì)濕度≤85%
可分析的元素范圍:元素周期表從19號(hào)鉀K至92號(hào)鈾U
zui低檢測(cè)下限:≤2ppm
測(cè)試時(shí)間:200-300s
探測(cè)器*分辨率:149±5ev
電源:AC220V±10%,50Hz 800W

標(biāo)準(zhǔn)配置:
探測(cè)器:Amptek 100CR
MCA多道脈沖處理器:自主研發(fā)制造
高壓電源:Spellman MNX50P50
x光管:丹東X光管Mo靶
分析軟件:ux210主用版V6.0

選配件:
多元素分析軟件
鍍層厚度分析軟件
六價(jià)鉻測(cè)試儀
光路優(yōu)化系統(tǒng)(可測(cè)試鹵素氯、zui低檢出限≤300PPM)

特點(diǎn):
成熟的經(jīng)典分析方法
憑借國家“七·五”“九·五”科技攻關(guān)計(jì)劃之科技成果,集成近二十五年分析測(cè)試應(yīng)用經(jīng)驗(yàn)的經(jīng)典數(shù)學(xué)分析模型,為測(cè)試者提供可靠、精準(zhǔn)、穩(wěn)定的分析結(jié)果。

強(qiáng)大的軟件功能
高度智能化設(shè)計(jì)使操作更加簡便,輕松成為測(cè)試專家。
可根據(jù)測(cè)試情況,自動(dòng)設(shè)定各操作單元?jiǎng)幼骷跋嚓P(guān)技術(shù)參數(shù)。既保證了相關(guān)器件的壽命,避免了人為操作誤差。
全自動(dòng)高精度背景擬合、多元回歸等解譜方法的應(yīng)用,使復(fù)雜材質(zhì)的檢測(cè)更加準(zhǔn)確、便捷。
特別預(yù)置的譜圖對(duì)比功能,很方便的實(shí)現(xiàn)歷史譜圖與被測(cè)譜圖的對(duì)比,利于對(duì)數(shù)據(jù)變化材質(zhì)的精確分析,進(jìn)一步提高企業(yè)的風(fēng)險(xiǎn)應(yīng)對(duì)水平。
簡單、迅速的數(shù)據(jù)管理與報(bào)告輸出格式,方便用戶進(jìn)行相關(guān)的數(shù)據(jù)管理與報(bào)告輸出。
開放性工作曲線
用戶可很方便的根據(jù)自身材質(zhì)狀況,建立風(fēng)險(xiǎn)材料的工作曲線,全面提高工作曲線與被測(cè)材料的對(duì)應(yīng)性。從而大幅度提升風(fēng)險(xiǎn)物質(zhì)的檢測(cè)精度。      
 
嚴(yán)謹(jǐn)?shù)挠布膳c結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
對(duì)可能影響整機(jī)精確度及穩(wěn)定性的核心器件,全部采用進(jìn)口原廠器件。
模塊化設(shè)計(jì)與組件選擇,確保了整機(jī)性能的穩(wěn)定性與未來服務(wù)的操作簡便性。
特別設(shè)計(jì)的原級(jí)、二次濾光系統(tǒng),既保證了對(duì)有害元素的激發(fā)效率,同時(shí)全面降低了作為干擾因素的背景強(qiáng)度,充分提高峰背比,大幅度降低檢出下限。
業(yè)界的全射線三重防護(hù)系統(tǒng)(軟件防護(hù)、硬件防護(hù)、迷宮式結(jié)構(gòu)),根本上避免了故障、誤操作等可能的輻射傷害。確保了機(jī)器操作過程中,儀器環(huán)境輻射量低于環(huán)境本底值。

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